EUV-4-LITHO
Spektroskopie und Analyse von Komponenten für die EUVLithografie und EUV-Maskeninspektion
Forschungsgegenstand
- Erzeugung von extrem ultravioletter (EUV) Strahlung bei 13,5 nm Wellenlänge für Metrologiezwecke
- Entwicklung eines Messverfahrens zur Bestimmung von Schichtdicken von Vielschichtspiegeln
- Spektroskopie von EUV-Quellen und EUVVielschichtspiegeln
- Untersuchung von Hochvakuumbedingungen und EUV-Quellen
Ergebnisse
- Entwicklung eines EUV-Spektrometers
- Theoretische Modellierung eines Messverfahrens für EUV-Vielschichtsysteme
- Vermessung von EUV-Vielschichtspiegeln
Beteiligte Einrichtungen und Kontaktdaten
Hochschule Schmalkalden
Fakultät Maschinenbau
Physik und Angewandte Lasertechnik
Prof. Dr. Christian Rödel
E-Mail: c.roedel(at)hs-sm.de
Telefon: 03683 688 2101
Militäruniversität Warschau
Institut für Optoelektronik
Prof. Dr. Henryk Fiedorowicz
Physikalisch-Technische Bundesanstalt
EUV-Metrologie-Beamline an BESSYII in Berlin
Dr. Frank Scholze
Drittmittelgeber
Carl Zeiss Stiftung (Programm Forschungsstart für neuberufene Professoren an HAW)
Weitere Informationen
- Laufzeit: 10/2023 – 09/2025 (24 Monate)
- Fördersumme: 150.000 €
- pdf: EUV-4-LITHO - Spektroskopie und Analyse von Komponenten für die EUVLithografie und EUV-Maskeninspektion
